alias: 刻蚀,etch,ET

date: 2022-07-23 19:46
类型: 项目笔记
tags: 蚀刻

选用适当的腐蚀剂，将掩膜层或衬底刻穿或减薄，以获得完整、清晰、准确的光刻图形或结构的技术
腐蚀必须具有选择性，腐蚀剂应对光刻胶或掩膜层不腐蚀
腐蚀因子：腐蚀深度与横向腐蚀量之比
[[A=ET=干法刻蚀]]
[[A=ET=湿法刻蚀]]
刻蚀要求：保真度，选择性，均匀性，清洁度，
[[A=ET=刻蚀速率]]

保真度

![[A=工艺=蚀刻 image 1.png]]