A=工艺=黄光A=PH=紫外线曝光工艺A=PH=掩膜板A=PH=抗反射涂层工艺A=PH=黄光工艺步骤A=PH=光刻胶的黏着力A=PH=光刻胶的光敏度和稳定性A=PH=光刻胶的对比度A=PH=光刻胶A=PH=光刻分辨率A=PH=多层光刻胶工艺A=PH=电子束直写式曝光A=PH=X射线曝光A=PH=ULSI对光刻的基本要求