PHA=alloyA=CMOS简单工艺A=SalicideA=工艺=CMPA=工艺=扩散A=工艺=离子植入A=平均自由程A=双极型集成电路制造工艺TFVia1, Plug1 及 Metal1 互连的形成ETLOCOS半导体中的各种现象和效应侧墙的形成接触孔形成工艺局部互连工艺浅槽隔离轻掺杂漏(LDD)注入工艺源漏注入工艺